次日,早。
江阳刚刚来到半导体实验室。
京机厂那边。
就送来了j5060通过最终测试的消息。
至此。
他们终于拥有了,能够完成制备,且满足光刻要求硅片的设备。
会议室内。
王寿吾正在对这段时间的研究成果,进行总结。
除开j5060外。
完成了化学机械抛光。
并利用两台显微镜加一个紫外曝光灯,搭建了“土光刻机”。
虽说只能勉强实现10微米的线宽。
但也能满足最低图形分辨率的须求。
当然。
也不是所有的研究都一帆风顺。
王寿吾道:
“光刻和扩散,是我们现在面临的两大难题。”
“手工光刻误差太大。”
“而开关扩散的掺杂,不仅存在波动,同一晶体管上的阈值电压差异——””
他说完后。
众人陷入沉思。
江阳也没有着急开口,而是等待众人讨论。
毕竟他不能什么都解决。
没过多久。
很快便有人开口,道:
“我认为,可以尝试从光刻胶上取得突破。”
听到他的话。
所有人都下意识地看向江阳。
光刻胶这个概念。
还是江阳提出来的。
在此之前,他们都是以合金法和台面工艺制作晶体管,无需光刻胶。
王寿吾颌首道:
“汤教授,您请继续。”
闻言,汤定远道:
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